物理蒸鍍及光學鍍膜
想要改變透明無色的玻璃，來達到要求的光譜或顏色，還能維持甚至提高穿透率，而且需不褪色、不剝落，作法就是在玻璃上鍍上一層薄膜。
單層薄膜厚度一般在數十至數千埃(埃=10-7mm)，由於要將一般塊狀材料，製作成如此薄的型態，必須使用特殊的方法。目前光學薄膜製作以物理蒸鍍法為主，
物理蒸鍍法是指在真空環境下，利用物理方法將材料蒸發到基材表面的過程。物理蒸鍍法有許多種，包括:
電子束蒸鍍:
利用電子束加熱材料，使其蒸發。
離子束蒸鍍:
利用離子束加熱材料，使其蒸發。
濺射蒸鍍:
利用高能粒子撞擊靶材，使靶材的材料原子濺射到基材表面。
熱蒸鍍:
利用加熱器加熱材料，使其蒸發。
薄膜材料蒸發由固態轉化為氣態或離子態。氣態或離子態之材料，由蒸發源穿越空間，抵達玻璃表面。材料抵達玻璃表面後，將沈積而逐漸形成薄膜。
想要使製作出來的薄膜，能擁有高純度，因此鍍膜製程是在高真空環境下完成。
光學鍍膜的實際作業流程簡化如下：基材以超音波洗淨機洗淨，洗淨後排上夾具，送入鍍膜機，開始加熱及抽真空。達到高真空後，開始鍍膜。
鍍膜時，使用電子槍或電阻式加熱，將鍍膜藥材變成離子態，由於鍍膜機處於高真空狀態，離子鍍膜材料可以順利到達基材。
通常，多層膜與高折射材料和低折射材料匹配。
常見的高折射材料如氧化鈦（TiO2、Ti3O5）或氧化鉭（Ta2O5），
低折射材料如氧化矽（SiO2）或氟化鎂（MgF2），有時也有中折射材料如氧化鋁（Al2O3）或氧化鋯(ZrO2)。
鍍膜時間根據層數和程序的不同而不同，從幾十分鐘到幾個小時不等。鍍膜完成後，待溫度冷卻後取出。鍍膜玻璃統稱為光學干涉濾光片，具有干涉光和過濾某些波長的功能。
根據濾光片的特性可細分為AR, IR Cut或Hot Mirror、紅外穿透/冷鏡(IR Pass)、UV Cut、Band Pass、Long Pass、Short Pass等等。
物理蒸鍍法優點:
可沉積多種材料，包括金屬、合金、陶瓷、半導體等。
可控制沉積層的厚度、成分和結構。
可沉積大面積的材料。
可以沉積高質量的薄膜，具有優良的性能。
可以沉積薄膜的厚度非常精確。
物理蒸鍍法的應用:
電子工業:
用於製造電子元件，例如半導體器件、顯示器、太陽能電池等。
光學工業:
用於製造光學元件，例如透鏡、鏡片、反射鏡等。
醫療工業:
用於製造醫療器械，例如人工關節、心臟瓣膜、牙科植入物等。
消費品工業:
用於製造消費品，例如眼鏡、鏡片、太陽鏡、珠寶、手錶、家電等。
航空航天工業:
用於製造航空航天器的結構件和部件。
物理蒸鍍鍍膜機示意圖
